熱線電話:0755-23712116
郵箱:contact@shuangyi-tech.com
地址:深圳市寶安區(qū)沙井街道后亭茅洲山工業(yè)園工業(yè)大廈全至科技創(chuàng)新園科創(chuàng)大廈2層2A
半導體業(yè)如此巨大的市場,半導體工藝設備為半導體大規(guī)模制造提供制造基礎。摩爾定律,給電子業(yè)描繪的前景,必將是未來半導體器件的集成化、微型化程度更高,功能更強大。
以下是半導體生產過程中的主要設備。
1、單晶爐
設備名稱:單晶爐。
設備功能:熔融半導體材料,拉單晶,為后續(xù)半導體器件制造,提供單晶體的半導體晶坯。
主要企業(yè)(品牌):
國際:德國PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美國QUANTUM DESIGN公司、德國Gero公司、美國KAYEX公司。
國內:北京京運通、七星華創(chuàng)、北京京儀世紀、河北晶龍陽光、西安理工晶科、常州華盛天龍、上海漢虹、西安華德、中國電子科技集團第四十八所、上海申和熱磁、上虞晶盛、晉江耐特克、寧夏晶陽、常州江南、合肥科晶材料技術有限公司、沈陽科儀公司。
2、氣相外延爐
設備名稱:氣相外延爐。
設備功能:為氣相外延生長提供特定的工藝環(huán)境,實現(xiàn)在單晶上,生長與單晶晶相具有對應關系的薄層晶體,為單晶沉底實現(xiàn)功能化做基礎準備。氣相外延即化學氣相沉積的一種特殊工藝,其生長薄層的晶體結構是單晶襯底的延續(xù),而且與襯底的晶向保持對應的關系。
主要企業(yè)(品牌):
國際:美國CVD Equipment公司、美國GT公司、法國Soitec公司、法國AS公司、美國Proto Flex公司、美國科特·萊思科(Kurt J.Lesker)公司、美國Applied Materials公司。
國內:中國電子科技集團第四十八所、青島賽瑞達、合肥科晶材料技術有限公司、北京金盛微納、濟南力冠電子科技有限公司。
3、分子束外延系統(tǒng)(MBE,Molecular Beam Epitaxy System)
設備名稱:分子束外延系統(tǒng)。
設備功能:分子束外延系統(tǒng),提供在沉底表面按特定生長薄膜的工藝設備;分子束外延工藝,是一種制備單晶薄膜的技術,它是在適當的襯底與合適的條件下,沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國際:法國Riber公司、美國Veeco公司、芬蘭DCA Instruments公司、美國SVTAssociates公司、美國NBM公司、德國Omicron公司、德國MBE-Komponenten公司、英國Oxford Applied Research(OAR)公司。
國內:沈陽中科儀器、北京匯德信科技有限公司、紹興匡泰儀器設備有限公司、沈陽科友真空技術有限公司。
4、氧化爐(VDF)
設備名稱:氧化爐。
設備功能:為半導體材料進行氧化處理,提供要求的氧化氛圍,實現(xiàn)半導體預期設計的氧化處理過程,是半導體加工過程的不可缺少的一個環(huán)節(jié)。
主要企業(yè)(品牌):
國際:英國Thermco公司、德國Centrotherm thermal solutions GmbH Co.KG公司。
國內:北京七星華創(chuàng)、青島福潤德、中國電子科技集團第四十八所、青島旭光儀表設備有限公司、中國電子科技集團第四十五所。
5、低壓化學氣相淀積系統(tǒng)(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deposition System)
設備名稱:低壓化學氣相淀積系統(tǒng)
設備功能:把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入LPCVD設備的反應室,在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國際:日本日立國際電氣公司、
國內:上海馳艦半導體科技有限公司、中國電子科技集團第四十八所、中國電子科技集團第四十五所、北京儀器廠、上海機械廠。
6、等離子體增強化學氣相淀積系統(tǒng)(PECVD,Plasma Enhanced CVD)
設備名稱:等離子體增強化學氣相淀積系統(tǒng)
設備功能:在沉積室利用輝光放電,使其電離后在襯底上進行化學反應,沉積半導體薄膜材料。
主要企業(yè)(品牌):
國際:美國Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國泛林半導體(Lam Research)公司、荷蘭ASM國際公司。
國內:中國電子科技集團第四十五所、北京儀器廠、上海機械廠。
7、磁控濺射臺(Magnetron Sputter Apparatus)
設備名稱:磁控濺射臺。
設備功能:通過二極濺射中一個平行于靶表面的封閉磁場,和靶表面上形成的正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域,實現(xiàn)高離子密度和高能量的電離,把靶原子或分子高速率濺射沉積在基片上形成薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國際:美國PVD公司、美國Vaportech公司、美國AMAT公司、荷蘭Hauzer公司、英國Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德國Cemecon公司。
國內:北京儀器廠、沈陽中科儀器、成都南光實業(yè)股份有限公司、中國電子科技集團第四十八所、科睿設備有限公司、上海機械廠。
8、化學機械拋光機(CMP,Chemical Mechanical Planarization)
設備名稱:化學機械拋光機
設備功能:通過機械研磨和化學液體溶解"腐蝕"的綜合作用,對被研磨體(半導體)進行研磨拋光。
主要企業(yè)(品牌):
國際:美國Applied Materials公司、美國諾發(fā)系統(tǒng)公司、美國Rtec公司、。
<span style="margin: 0px; padding: 0px; max-width: 100%; font-family: SimSun; box-sizing: