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基于機器視覺的精密對位系統結構復雜,集成了精密機械技術、光學系統/圖像處理技術/智能控制技術等多項技術。精密機械工作平臺是精密機械技術的重要組成部分,也是精密對位系統中的關鍵子系統,它對組裝對位設備完成精確的器件對位起著至關重要的作用。目前常見的對位運動平臺如下圖所示:
1、 XYθ工作平臺
如上圖所示,XYθ工作平臺是最為常用的工作平臺,θ是獨立的轉動軸,可以旋轉大角度,缺點是平臺的疊加性造成了誤差的疊加放大,精度不易保證。隨著平板顯示技術迅猛發展,平板展示產品對其加工設備精度的要求也不斷提高,XYθ平臺逐步被精密對位應用場合所淘汰。
2、 Xθ+Y工作平臺
所謂Xθ+Y工作平臺就是工件能夠沿X和θ方向運動,Y軸能獨立于X和θ軸自由運動,一般應用在玻璃切割,線陣CCD掃描的場合,所以不適合應用于精密對位系統中。
3、 XXY(UVW)工作平臺
日本常用名稱為”UVW”,而臺灣一般稱呼為“XXY”,XXY就是兩個X方向的軸向,搭配一個Y方向軸向,剩余一軸采用自由軸。它的出現用來取代某型傳統的XYθ的應用。不同于傳統疊加型的XYθ的結構,整體高度有效降低,增加了機臺空間的利用率。
UVW工作平臺是一種新型的用于精密對位系統中的工作平臺,憑借著結構簡單、運動靈活、控制較方便、定位精度高等總舵優點,在平板顯示行業眾多加工設備中得到了廣泛的應用。
4、 XXYY工作平臺
因制程不斷提升,為了能讓超大尺寸的XXY平臺也能精準對位,由上圖可知,XXYY是把XXY中的自由軸也加上馬達,使之稱為可主動帶動運動軸的軸向,故稱作XXYY。
超大平臺的未來趨勢-XXYY簡介
為何要提升至XXYY?當平臺臺面達到1500mm時候,還是使用XXY來做對位的話,會產生什么問題呢?
條件1:當X1和X2激磁不動作
條件2:浮立軸預壓正常,無異常情形
條件3:馬達皆正常動作
情形:
X1和X2不動作進行計策,此時進行Y方向移動,因大臺面的原因,單Y1推動的力量和機構間存在的微小間隙,可能會導致整個臺面的移動不正確,產生誤角度出現,出現定位失準現象。
條件1:當X1和X2激磁不動作
條件2:馬達皆正常動作
情形:
X1和X2不動作進行計策,此時進行Y方向移動1mm,因大臺面的原因,Y1和Y2共同進行運動,讓整個臺面正確移動,不產生誤角度,定位準確。
XXYY解決Y方向失準問題,也有本身存在的優缺點:
優點:
a.相對于三軸,XXYY四軸皆受馬達激磁,排除外力或不定因素造成自由軸移位,可實現 平臺最好的穩定狀態。
b.排除Y方向失準問題,進行準確的移位。
缺點:
a.軟件支援少,目前仍以三軸為主流。
b.進行Y方向運動時是不會產生角度的,Y1和Y2皆是單純的Y方向,在同時動作時, 動作距離如果不精準,再加上模組本身的螺桿和導軌有些間隙問題,在累積兩軸的動作 誤差后,有可能會造成結構上的順壞。
c.成本比三軸來得高。
d.增加Y2軸,也增加軟件的運算難度,在進行角度運算時,連Y2軸也必需考慮進去。
運算角度時,四軸運算的難度提升
名稱 | 新型UVW平臺(EXXY平臺) | 傳統XYθ平臺 |
平臺 | ||
定義 | XXY顧名思義就是兩個X方向的軸向,搭配一個Y方向的軸向剩余一軸采用自由軸,所以也有人稱XXY或是日本常用的名稱“UVW” |
由兩個平移平臺和一個旋轉平臺組建而成的三維平臺 |
優缺點 | (1) 能夠構成薄型結構、負載比較強 (2) 容易得高精度 (3) 價格比較昂貴 (4) 構造比較復雜,不容易自己設計 | (1) 整體厚度比較大 (2) 一般的精度 (3) 價格相對便宜 (4) 構造比較簡單,容易設計 |
3個伺服電機控制U軸、V軸、W軸3軸, 能夠在任意位置定位的平臺。
※中央平臺被一個倒T型的支架固定。
UVW(XXY)平臺的特色
? 薄-不同于傳統XYθ的結構少了DD馬達的厚度與成本,整體高度有效降低,進而減輕本身重量,增加機臺空間的利用率。
? 準-平臺經由精密研磨加工,每個機構環節皆經過嚴密測試及結構上的調校。搭配影像對位軟件,整體精度可與客戶討論選擇最適合的條件。
? 穩-在每個環節,包括組成平臺的機件、馬達驅動器、線軌螺桿等等,皆是經過長時間累績經驗,反復修正,用最佳加工方法和高穩定度的零組件,達到平臺最穩定的狀態。
動作簡介
要實現微米級的定位要求有許多不同的方式,采用直線電機和氣浮導軌可以消除摩擦影像,行程長,但是成本很高,體積大,適用場合受到限制;采用壓電元件驅動,以柔性鉸鏈為彈性導軌克服了機械摩擦等因素,可以獲得納米級的定位精度,但壓電元件的變形有限,一般運動范圍在十幾微米。傳統的采用伺服電機和精密絲杠傳動的方案,盡管存在機械間隙、摩擦力以及爬行現象,但是這些缺陷在一定程度上能予以克服,同時絲杠螺母機構可以做到微米級以下精度,經濟成本不高。
平臺數學模型
如果是UVW平臺,設U軸到平臺中心Ot的距離為UR,伺服電機可以的分辨率為10000個脈沖一圈,絲杠的導程Pitch為5mm,那這樣U軸的最小位移量Umin可以達到0.5um;將設當UR=100mm時平臺可以旋轉的細分角度可以達到arctan(0.0005/100)。具體計算如下:
Umin = 5mm/10000Pulse =0.0005mm/Pulse
tan(θmin)=0.0005/100 θmin =arctan(0.0005/100)≈0.0003度
而如果使用XYθ類型的平臺機構,則旋轉的細分角度θmin就是電機自身能旋轉的最小角度,當伺服電機的分辨率為10000pulse/Rev時,它的細分角度最小為(2π/10000) = 0.036度。從理論上分析,UVW平臺的角度細分精度遠遠大于XYθ類型的平臺機構。
通過以上分析對平臺機構的分析和計算,UVW平臺在許多方面要優于其他的平臺。
(1)直驅型
直驅型由于采用馬達直接驅動旋轉平臺,所以旋轉角度和馬達的分辨率有關:
假如:
我們采用的電機驅動器分辨率為:10000P/R即電機旋轉1圈需要10000個脈沖,而傳動比為90:1,即電機轉動90圈,平臺才轉動1圈,即旋轉平臺轉動1圈需要90*10000 = 900000個脈沖,那么對于旋轉平臺來說,每個脈沖移動的角度為2π/900000.
若是電機不加減速機,直接通過電機軸和聯軸器連接旋轉平臺,那么傳動比則為1:1,即電機轉動1圈,旋轉平臺即轉動1圈,如上例所示,則旋轉平臺每個脈沖移動的角度為2π/10000。
(2)直線驅動型
直線驅動型旋轉平臺
直線驅動型為采用絲桿帶動連桿,使平臺進行旋轉運動。
根據數學公式:
角度(θ)=弧長(L)/半徑(R)即可算出這種類型的分辨率
假設旋轉軸電機可以的分辨率為10000個脈沖一圈,絲杠的導程Pitch為5mm,那這樣旋轉軸的最小位移量Umin可以達到0.5um;將旋轉半徑R(即上圖中的L):R=100mm時平臺可以旋轉的細分角度可以達到arctan(0.0005/100)。具體計算如下:
Umin = 5mm/10000Pulse =0.0005mm/Pulse
tan(θmin)=0.0005/100 θmin =arctan(0.0005/100)≈0.0003度
此時,這個電機每一個脈沖,旋轉平臺轉動0.0003度。
對位系統包的基本概念 (1)
對位系統包是指,使用2~4顆相機針對目標物(Mark點)的位置,2~4顆相機采集Mark點的信息,算出XYθ移動量。
具有自動調整功能,相機安裝時,不需要很麻煩地吻合X、Y坐標以及進行相機->平臺坐標轉換的復雜運算。若是檢測Mark點變化后,只需執行自動調整,就可以簡單恢復到模板的位置,從而保證對位精度。若是產品變換,導致Mark點變換后,只需要重新對新的Mark點進行模板學習,即可完成對位操作。使得產品品種變更后實現自動對位也變得十分簡單。
對位系統包的基本概念(2)
自標定(Auto Calibration)
如果利用對位控制器,此前使用圖像處理裝置時不可或缺的校正工序能夠自動完成。
(1)自動算出各攝像頭的分辨率、視野大小
(2)自動算出相機與平臺的角度
(3)自動測得兩相機之間的關系,統一大坐標系。
通過移動分別X、Y、θ軸,自動算出相機的分辨率、視野大小,以及對平臺進行自標定。
對位系統包的基本概念(3)
自動對位
根據之前的自標定,算出相對于基準位置的對象物mark的坐標即移動Mark的偏移量。然后移動X、Y、θ進行對位。最終完成對位。若是一次沒有將當前mark點移動回和基準位置的mark一樣的位置,那么可以進行重復操作直到完成對位。
XYθ視覺對位平臺的系統原理
XYθ視覺對位平臺的系統原理圖
在本系統中,采用雙CCD進行待測物靶標的讀取,通過圖像處理系統與基準靶標進行比較,運用圖形識別算法計算平臺移動量,通過工控機和運動控制卡控制電機執行運動,達到薄膜上的靶標與基準靶標的對準,進而完成對位調整。