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視覺應用軟件
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MasterAlign對位貼合系統(tǒng)——映射對位應用

發(fā)布時間:2020-12-09 16:44:36 最后更新:2021-03-15 15:45:32 瀏覽次數(shù):3661

映射對位應用①目標產(chǎn)品和對象產(chǎn)品放置到視野中,放置目標產(chǎn)品的平臺稱為非對位平臺,放置對象產(chǎn)品的平臺稱對位平臺;②視覺系統(tǒng)拍攝兩個產(chǎn)品對應的靶標,計算對象產(chǎn)品和目標產(chǎn)品的位置偏差;③操控對位平臺機構執(zhí)行偏差糾偏直到偏差小于設定值;④完成糾偏后,再執(zhí)行設備下一步動作。主要應用領域有3C產(chǎn)品貼合組裝、機械手組裝,汽車制造等。

對位目標不固定,通過非對位平臺上的目標相機獲取坐標,通過映射關系轉換到平臺上相機中,再計算出對象和目標位置偏差,使對準目標位置。




1.單目雙Mark映射對位模型


說明:平臺端和非平臺端來料位置都不固定,但是Mark與產(chǎn)品的相對位置固定。平臺端和非平臺端各有一個相機,拍照并找兩張照片中Mark的角度坐標差作為偏移量,根據(jù)偏移量和兩相機之間的映射關系,將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。

應用場景:小尺寸產(chǎn)品或精度要求不高的產(chǎn)品

適用產(chǎn)品:如fpc與鋼片的貼合

適用尺寸:小尺寸

精度:±0.05mm

 

2.單目四Mark映射對位模型


該模型下常見的Mark標志方法如下(同單目雙Mark自對位):


說明:平臺端和非平臺端來料位置都不固定,但是Mark與產(chǎn)品的相對位置固定。確保兩個Mark都在相機視野內(通常是將產(chǎn)品抓起后再拍攝防止拍完再抓導致產(chǎn)品移動或變形)。根據(jù)糾偏算法找到偏移量。根據(jù)偏移量和兩端相機的映射關系將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同單目雙Mark自對位,區(qū)別在于單目雙Mark自對位是將平臺端產(chǎn)品貼合到基準位,單目四Mark映射對位模型是將平臺端產(chǎn)品貼合到非平臺端,兩端的產(chǎn)品都需要做定位。

應用場景:相同環(huán)境下單目四Mark映射對位比單目雙Mark映射對位精度高

適用尺寸:小尺寸

精度:通常±0.05mm

 

3.單目六Mark映射對位模型


該模型下常見的Mark標志方法如下(同單目三Mark自對位):


說明:平臺端與非平臺端的產(chǎn)品來料位置不固定,但是Mark與產(chǎn)品的相對位置固定。三個Mark對應產(chǎn)品的兩個交點和一個特征點。拍攝時確保所有Mark點在相機視野內(通常是將產(chǎn)品抓起后再拍攝防止拍完再抓導致產(chǎn)品移動或變形)。根據(jù)糾偏算法找到偏移量,根據(jù)偏移量將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同單目三Mark自對位,區(qū)別在于單目三Mark自對位是將平臺端產(chǎn)品貼合到基準位,單目六Mark映射對位模型是將平臺端產(chǎn)品貼合到非平臺端,兩端的產(chǎn)品都需要做定位。

應用場景:該模型并不常用,屬于比較特殊的應用模型,但是相同環(huán)境下精度比單目單/雙Mark更高

適用產(chǎn)品:客戶要求使用這種定位方式時

適用尺寸:小尺寸

精度:±0.05mm

 

4.單目八Mark映射對位模型


該模型下常見的Mark標志方法如下(同單目四Mark自對位):


說明:平臺端和非平臺端來料位置都不固定,但Mark與產(chǎn)品的相對位置固定。四個Mark對應矩形產(chǎn)品的四個角點。拍攝時確保四個Mark都在相機視野內(通常是將產(chǎn)品抓起后再拍攝防止拍完再抓導致產(chǎn)品移動或變形)。根據(jù)糾偏算法找到偏移量。根據(jù)偏移量和兩端相機的映射關系將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。   


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同單目四Mark自對位,區(qū)別在于單目四Mark自對位是將平臺端產(chǎn)品貼合到基準位,單目八Mark映射對位模型是將平臺端產(chǎn)品貼合到非平臺端,兩端的產(chǎn)品都需要做定位。

應用場景:增加了抓取Mark通道,使得對位精度更高,對產(chǎn)品的居中效果更加明顯

適用產(chǎn)品:客戶要求精度較高時

適用尺寸:800x600mm(完成項目)

精度:±0.05mm


5.四Mark映射對位模型

四mark映射對位模型(1)---單相機模型,如下圖:


四mark映射對位模型(2)---雙相機模型,如下圖:


該模型下常見的Mark標志方法如下(同雙Mark自對位):


說明:四Mark映射對位有單相機和雙相機兩種情況(平臺端)。單相機模型拍攝完一個Mark點后移動位置拍攝另一個Mark點,雙相機模型兩個相機分別拍攝兩個交點。非平臺端與平臺端拍攝方式相同。得到Mark點后。根據(jù)糾偏算法找到偏移量,根據(jù)偏移量和兩組相機的映射關系將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同雙Mark自對位,一般使用長邊中點作為(x,y),長邊角度作為θ。區(qū)別在于雙Mark自對位只有平臺端有相機,通過平臺端的拍攝的Mark點和基準Mark點對比;四Mark映射對位的平臺端和非平臺端都有相機,通過平臺端拍攝的Mark點和非平臺端拍攝的Mark點對比。

應用場景:彌補單目雙Mark映射對位在較大尺寸產(chǎn)品時精度不夠的問題,相對單目雙Mark映射對位精度更高

適用產(chǎn)品:較大產(chǎn)品

適用尺寸:100~200mm

精度:±0.05mm

 

6.六Mark映射對位模型

六mark映射對位模型(1)---單相機模型,如下圖:


 

六mark映射對位模型(2)---三相機模型,如下圖:


該模型下常見的Mark標志方法如下(同三Mark自對位模型):


說明:六Mark映射對位有單相機和三相機兩種情況(平臺端)。單相機模型拍攝完一個Mark點后移動位置拍攝另一個Mark點,三相機模型三個相機分別拍攝三個Mark點。非平臺端與平臺端拍攝方式相同。得到Mark點后,根據(jù)糾偏算法找到偏移量,根據(jù)偏移量和兩組相機的映射關系將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同三Mark自對位。

應用場景:該模型并不常用,屬于比較特殊的應用模型,但是相同環(huán)境下精度比單目單/雙Mark更高

適用產(chǎn)品:較大產(chǎn)品

適用尺寸:>200mm

精度:±0.05mm


7.八Mark映射對位模型

八mark映射對位模型(1)---單相機模型,如下圖:


八mark映射對位模型(2)---四相機模型,如下圖:


該模型下常見的Mark標志方法如下(同單目四Mark):


說明:八Mark映射對位有單相機和四相機兩種情況(平臺端)。單相機模型拍攝完一個Mark點后移動位置拍攝另一個Mark點,四相機模型的四個相機分別拍攝四個交點。非平臺端和平臺端拍攝方法相同。找出兩端的Mark點后,根據(jù)糾偏算法找到偏移量,根據(jù)偏移量和兩組相機的映射關系將平臺端的產(chǎn)品貼到非平臺端上。


糾偏方法:如上圖所示,糾偏方法同四Mark自對位。

應用場景:用于解決產(chǎn)品尺寸較大,精度不夠的問題。八Mark映射對位精度相比六Mark和四Mark更高

適用產(chǎn)品:較大尺寸產(chǎn)品

適用尺寸:>200mm

精度:±0.05mm

 

 

 

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